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块体纳米晶工业纯铁在0.4 mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为

孙淼 , 张艳 , 王胜刚

腐蚀科学与防护技术

借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量, 研究块体纳米晶工业纯铁(BNII) 和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为; 用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌. 结果表明, 与CPII相比, BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43 mV, 自腐蚀电流Icorr由68.37 μA•cm-2减小为29.55 μA•cm-2; 电荷转移电阻Rt由427.0 Ω•cm2增大到890.1 Ω•cm2. 两种材料发生的点蚀呈不同的形态: BNII的点蚀孔小而浅, 腐蚀深度比较均匀, 而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大. 与CPII相比, BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高.

关键词: 块体纳米晶工业纯铁(BNII) , severe rolling , hydrochloric acid solution , corrosion

块体纳米晶工业纯铁在0.4mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为

孙淼 , 张艳 , 王胜刚

腐蚀科学与防护技术

借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量,研究块体纳米晶工业纯铁(BNII)和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为;用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌.结果表明,与CPII相比,BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43mV,自腐蚀电流Icorr由68.37pA·cm^-2减小为29.55pA·cm^-2;电荷转移电阻Rt由427.0Q·cm^2增大到890.1Q·cm^-2两种材料发生的点蚀呈不同的形态:BNII的点蚀Ykd,而浅,腐蚀深度比较均匀,而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大.与CPII相比,BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高.

关键词: 块体纳米晶工业纯铁(BNII) , 深度轧制 , 盐酸溶液 , 腐蚀

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